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LOCATION:Technische Sammlungen Dresden (Junghansstraße 1 – 3 (Eingang Schandauer Str.) 01277 Dresden)
SUMMARY:Lithografie – Teil 2: Technologien am physikalischen Limit heute, Ansätze für morgen
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DESCRIPTION:Lithografie ist und bleibt der Schlüssel zur Weiterentwicklung der Mikroelektronik. Die Veranstaltung bietet eine hervorragende Gelegenheit, aktuelle Technologien besser zu verstehen, neue Ansätze kennenzulernen und sich mit Fachkolleginnen und Fachkollegen aus dem Silicon Saxony Netzwerk auszutauschen. Ob Sie bereits näher mit der Halbleiterindustrie vertraut sind oder sich für die technologischen Grundlagen kommender Innovationen interessieren – dieser Abend liefert wertvolle Einblicke und spannende Diskussionen.Die 193-nm-Lithografie in der BauelementeproduktionRolf Seltmann, ehemaliger Lithografie Fellow bei Globalfoundries, gibt Einblicke in die technologischen Herausforderungen der 193-nm-Lithografie.Atomic Pitch Splitting (APS™) – Eine neue Generation der HalbleiterstrukturierungJonas Sundqvist, CEO von AlixLabs, stellt den innovativen APS-Ansatz vor und zeigt auf, wie das Verfahren neue Möglichkeiten für die Strukturierung künftiger Technologiegenerationen eröffnen kann.Eine Veranstaltung der Silicon Saxony Alumni
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